XZ-55 Brown 溶剤除去型メッキレジスト

XZ-55 Brown 溶剤除去型メッキレジスト

溶剤除去型メッキレジスト
耐薬品性に優れ、長時間の酸性又は、アルカリ性メッキ浴及び各種洗浄工程に耐えます

使用用途

プリント回路基板用

製品仕様

乳剤
殆どの種類の写真製版が使用できます。非常に精度の高いプリントするには、カピラリー又は、コンビネーションの版をお勧めします。スキージは中硬以上のものを使用してください。
洗浄
スクリーン洗浄には一般的な洗浄溶剤が使えます。
保存方法
密閉容器で涼しい(10~20°C)場所に保管すれば1年以上の貯蔵が可能です。
印刷機
このレジストは、手動、半自動、全自動スクリーン印刷機で使用できます。
レジストの除去
メッキ後レジストを除去するには脂肪族系、芳香族系及びハロゲン化炭化水素溶剤が適しています。
前洗浄
密着を良くするには、基板上に油脂及び酸化物があってはなりません。マイルドな薬品または、機械によるクリーニングをお勧めします。
乾燥
赤外線の場合
120°C~130°C 4~8分
90°C~100°C 6~10分
対流オーブンの場合は赤外線炉の二倍の時間が必要です。
加熱し過ぎると、レジストの除去が困難になりますので注意してください。
希釈
印刷機の状態に合わせる為必要に応じて、最大5%までXZ-39シンナーを加えて下さい。
最高の皮膜を維持するためThinnerの添加量は、出来るだけ少なくしてください